توسعه یک مدل دو هدفه برای مسیله حداکثر پوشش با محدودیت پارامترهای صف
محل انتشار: فصلنامه مطالعات مدیریت صنعتی، دوره: 8، شماره: 18
سال انتشار: 1389
نوع سند: مقاله ژورنالی
زبان: فارسی
مشاهده: 402
فایل این مقاله در 13 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
این مقاله در بخشهای موضوعی زیر دسته بندی شده است:
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
JR_JIMS-8-18_001
تاریخ نمایه سازی: 1 اردیبهشت 1397
چکیده مقاله:
مسیله مکان یابی حداکثر پوشش (MCLP) سعی در حداکثر نمودن پوشش جمعیتی می کند که در یک حداکثر فاصله با زمان مشخص از یک تجهیز قرار دارند. توسعه های بسیاری جهت بهبود کاربردهای این مسیله ارایه شده است که یکی از آنها ترکیب این مسیله با مدلهای صف است. به عنوان مثال مکان یابی محل تعدادی خدمت دهنده با هدف حداکثر نمودن پوشش مشتریان و محدودیت در طول یا زمان انتظار مشتریان در صف. در این مقاله مدل ارایه شده توسط کورآ و لورنا [3] که به صورت یک مسیله حداکثر پوشش با محدودیت شاخصهای صف است، توسعه داده می شود. بگونه ای که علاوه بر تابع هدف حداکثر پوشش، هدف حداقل نمودن فواصل خدمت دهنده ها تا مشتریان نیز در نظر گرفته می شود. بدین منظور بر خلاف مدل مقاله اصلی محدودیت خاصی در تخصیص مشتریان به گره های خدمت دهی ایجاد نگردیده و این خود مدل خواهد بود که نحوه تخصیص را مشخص می کند. مدل توسعه داده شده توسط الگوریتم ژنتیک و نرم افزار CPLEX حل و نتایج حاصل نشان دهنده عملکرد مطلوب الگوریتم توسعه داده شده می باشد
کلیدواژه ها:
نویسندگان
مهدی سیف برقی
استادیار دانشگاه الزهرا، دانشکده فنی و مهندسی
راضیه فرقانی
دانشجوی کارشناسی ارشد مهندس صنایع دانشگاه الزهرا، دانشکده فنی و مهندسی
ظریفه راثی
دانشجوی کارشناسی ارشد مهندس صنایع دانشگاه الزهرا، دانشکده فنی و مهندسی