بررسی ویژگی های الکتریکی و نوری نانوساختارهای چندلایه ای (MoO(۳)/Ag/Cu/MoO(۳

در این مقاله، خواص نوری و الکتریکی سه الکترود رسانای شفاف (MoO(۳)/Cu/MoO(۳ و یک الکترود رسانا شفاف چهار لایه (MoO(۳)/Ag/Cu/MoO(۳ تهیه شده به روش کندوپاش مگنترون بر روی زیر لایه های شیشه ای مورد بررسی قرار گرفت. نتایج خواص نوری نشان داد که با افزایش زمان لایه نشانی و ضخامت میزان عبور در لایه مس و افزودن یک لایه نقره کاهش یافت. ساختار چهار لایه کمترین میزان عبور را از خود نشان داد. گسیلندگی با افزایش زمان لایه نشانی فلز مس، گسیلندگی برای نمونه با ۵۰ ثانیه لایه نشانی مس، به ۲۸۱ / ۰ و برای نمونه با ۱۰۰ ثانیه لایه نشانی مس، به ۱۲۲ / ۰ و برای نمونه با ۱۵۰ ثانیه لایهنشانی مس، به ۱۰۴ / ۰ کاهش یافت. در آخر ضریب شایستگی با افزایش زمان لایه نشانی فلز مس، برابر ۰۲۴ / ۰ برای نمونه با ۵۰ ثانیه لایه نشانی مس، برابر ۰۵۳ / ۰ برای نمونه با ۱۰۰ ثانیه لایه نشانی مس و برابر ۰۶۴ / ۰ برای نمونه با ۱۵۰ ثانیه لایه نشانی مس بدست آمد. قبل از حرارت دهی، نمونه سه لایه با ۵۰ ثانیه لایه نشانی مس بالاترین بازتاب را داشت. با افزایش مدت زمان لایه نشانی مس بازتاب کاهش یافت. پس از حرارت دهی، نمونه با ۱۰۰ ثانیه لایه نشانی مس بالاترین بازتاب را نشان داد. ساختار چهار لایه با دو لایه میانی مس و فلز نقره کمترین بازتاب را هم قبل و هم پس از حرارتدهی در مقایسه با همه نمونه ها دارا بود. بر اساس اندازه گیری های الکتریکی، مقاومت نمونه ها با افزایش مدت زمان لایه نشانی فلز میانی، کاهش یافت. گاف انرژی نمونه (MoO(۳)/Cu(۵۰- s)/MoO(۳ برابر ۳/۱۷eV، نمونه (MoO(۳)/Cu(۱۰۰ s)/MoO(۳ برابر ۳/۳۸eV، نمونه (MoO(۳)/Cu(۱۵۰ s)/MoO(۳ برابر ۲/۸۲eV و نمونه (MoO(۳)/Ag/Cu/MoO(۳ برابر ۳/۱۸eV بدست آمد. همچنین گاف انرژی نمونه ها پس از بازپخت برابر ۲/۵۱eV برای نمونه با ۵۰ ثانیه لایه نشانی مس، برابر ۳/۴۱eV برای نمونه با ۱۰۰ ثانیه لایه نشانی مس، برابر ۳/۴۱eV برای نمونه با ۱۵۰ ثانیه لایه نشانی مس و برابر ۳/۳۴eV برای ساختار چهار لایه (MoO(۳)/Ag/Cu/MoO(۳ بدست آمد.

کلیدواژه ها:

اکسیدفلز/فلز/اکسید فلز ، کندوپاش مغناطیسی ، ویژگی های نوری ، ویژگی الکتریکی