بررسی اثر محلول پاشی سالیسیلیک اسید بر برخی خصوصیات بیوشیمیایی دو رقم کلزا (.Brassica napus L) تحت شرایط تنش سرما

دمای پایین به عنوان یک عامل محدودکننده تولیدات گیاهی به شمار می رود. در این تحقیق اثر محلول پاشی سالیسیلیک اسید بر برخی خصوصیات بیوشیمیایی دو رقم کلزا با درجه تحمل متفاوت به سرما مورد بررسی قرار گرفته است . سالیسیلیک اسید در 4 غلظت 0، 100، 200 و 400 میکرومول در مرحله روزت دو رقم کلزا RGS (بهاره و حساس به سرما) وLICORD (پاییزه و متحمل به سرما) محلول پاشی گردید. نمونه گیری از کرت ها 24 ساعت بعد از محلول پاشی انجام شد. مقدار کلروفیل a و b، کلروفیل کل (a+b)، کاروتنوییدها، آنتوسیانین ، فلاونوییدها، پراکسیداسیون لیپیدهای غشاء، پرولین و مقدار قند اندام هوایی و ریشه مورد مطالعه قرار گرفت . نتایج نشان داد که سرما (بدون کاربرد سالیسیلیک اسید) باعث کاهش مقدار کلروفیل a،b ، کلروفیل کل ، کاروتنویید و قندهای محلول در رقم حساس به سرما شد، اما رقم مقاوم دارای برتری معنی داری در صفات ذکر شده نسبت به رقم حساس بود. همچنین مقدار پراکسیداسیون لیپیدی غشاء اندام هوایی در رقم مقاوم نسبت به رقم حساس بیشتر بود. محلول پاشی سالیسیلیک اسید در غلظت های پایین باعث افزایش معنی دار مقدار کلروفیل a،b ، کلروفیل کل ، کاروتنویید، آنتوسیانین ، فلاونویید، پرولین و قندهای محلول شد. در حالی که سبب کاهش معنی داری در پراکسیداسیون لیپیدی غشاء در هر دو رقم گردید. افزایش رنگیزه های فتوسنتزی، پرولین و قندها و کاهش پراکسیداسیون لیپیدی غشاء نشان دهنده کاهش خسارت اکسیداتیو و نقش سالیسیلیک اسید در افزایش تحمل کلزا در برابر سرما می باشد. در این آزمایش مشاهده شد که سالیسیلیک اسید در غلظت های پایین تر از 200 میکرومول در رفع آسیب اکسایشی نقش موثر دارد ولی غلظت 400 میکرومول سالیسیلیک اسید خود سبب بروز تنش در گیاه می گردد.

کلیدواژه ها:

تنش اکسیداتیو ، پر اکسیداسیون چربی های غشاء ، رنگدانه های فتوسنتزی ، پرولین