بررسی ابعاد مطلوب و روش های استخراج ولتاز آستانه در افزاره 28nm-UTBB SOI
محل انتشار: سومین کنفرانس ملی و اولین کنفرانس بین المللی پژوهش هایی کاربردی در مهندسی برق، مکانیک و مکاترونیک
سال انتشار: 1394
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 524
فایل این مقاله در 12 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
ELEMECHCONF03_0979
تاریخ نمایه سازی: 9 مرداد 1395
چکیده مقاله:
ویژگی ها و برتری های ترانزیستوری سیلیکون روی عایق باعث گسترش استفاده و جایگزینی این ترانزیستورها در مدارات مجتمع شده است، در ابتدا به مقایسه ترانزیستورهای بدنه سیلیکون با ترانزیستورهای سیلیکون روی عایق می پردازیم. در ادامه به بررسی روش های کاهش اثرات پارازیتی، بهبود اثرات کانال کوتاه و بهبود مصرف توان در ترانزیستورهای سیلیکون روی عایق پرداخته می شود و همانطور که بیان خواهد شد این روش ها منجر به استفاده از تکنولوژی UTB و تکنولوژی UTBB می شود. با توجه به این نکته که کاهش اندازه اجزا و افزاره ها در تکنولوژی مدارات مجتمع با حداقل طول کانال شرح داده می شود لذا به تعیین ابعاد دقیق یک افزاره متناسب با طول گیت و براساس تعاریف و قوانین استاندارد می پردازیم. علاوه بر اهمیت تعیین ابعاد و پارامترهای فیزیکی لازم جهت شبیه سازی و ساخت افزاره، استخراج پارامترهای ترانزیستور سیلیکون روی عایق نظیر ولتاژ آستانه بخش مهم دیگری از پروسه توصیف و مدل سازی افزاره می باشد که در این تحقیق این موضوع نیز بررسی می شود. در پایان نتایج حاصل از تحقیق در طراحی و شبیه سازی افزاره مورد استفاده قرار می گیرد.
کلیدواژه ها:
ترانزیستور سیلیکون روی عایق ، ترانزیستور بدنه سیلیکون ، اثرات کانال کوتاه ، ولتاژ آستانه ، UTBB ، 28nm DIBL
نویسندگان
محمد جمشیدی
دانشجوی کارشناسی ارشد، دانشکده فنی - دانشگاه شهرکرد
آرش دقیقی
دانشیار، دانشکده فنی- دانشگاه شهرکرد
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :