بررسی دوپایداری اپتیکی در بلورهای فوتونی یک بعدی با جفت لایه غیر خطی وابسته به مکان

در این مقاله دوپایداری اپتیکی در بلور های فوتونی حاوی جفت لایه نقص غیر خطی با ضریب شکست وابسته به مکان مطالعه شده است. با استفاده از روش ماتریس انتقال تاثیر وابستگی مکانی ضریب شکست لایه های غیر خطی و جابجایی مکان این لایه ها بر روی آستانه دوپایداری اپتیکی بررسی شده است. نشان داده شده است که وابستگی مکانی ضریب شکست لایه های غیر خطی باعث کاهش آستانه دوپایداری اپتیکی شده و همچنین با کاهش فاصله بین لایه های غیر خطی وابسته به مکان آستانه دوپایداری اپتیکی نیز کاهش می یابد.

کلیدواژه ها:

دوپایداری اپتیکی ، ضریب شکست وابسته به مکان ، ماتریس انتقال