محاسبه ولتاژ آستانه ماسفت سیلیکون روی الماس با عایق دولایه بدنه فوق نازک به روش تحلیلی

سال انتشار: 1402
نوع سند: مقاله ژورنالی
زبان: فارسی
مشاهده: 194

فایل این مقاله در 9 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

JR_JIAE-21-1_003

تاریخ نمایه سازی: 30 آذر 1402

چکیده مقاله:

در این مقاله، برای اولین بار، پتانسیل توزیع شده در گیت جلویی و گیت پشتی به کمک حل معادلات پوواسون دو بعدی در کانال ادوات سیلیکون روی الماس با عایق دولایه بدنه فوق نازک تخلیه کامل محاسبه گردیده است. سپس با توجه به تعریف ولتاژ آستانه رابطه کلی ولتاژ آستانه این افزاره استخراج گردیده است. معادلات پوواسون محاسبه شده برای گیت جلویی و پشتی با در نظر گرفتن تقریب تغییرات سهمی وار پتانسیل بین مرز گیت جلویی و پشتی برای مقادیر پایین ولتاژ درین و با استفاده از مدل خازنی افزاره انجام گردیده است. با محاسبه پتانسیل در بدنه ترانزیستور با طول کانال ۲۲ نانومتر و مقایسه آن با نتایج شبیه سازی ماسفت، تقریب بسیار خوبی در ولتاژهای درین کم بدست آمده است. تغییرات ضخامت عایق گیت، فیلم سیلیکونی، عایق دوم و عایق اول بر روی ولتاژ آستانه نشان داده شده است. مقایسه این مقادیر با نتایج شبیه سازی ساختار ماسفت سیلیکون روی الماس با عایق دولایه، بیانگر تقریب بسیار خوب معادلات تحلیلی میباشد و کاربرد نتایج حاصل در این مقاله برای محاسبات ولتاژ آستانه را متضمن می­شود.

کلیدواژه ها:

Ultra-thin-body ، Double insulating SOD ، ۲ dimensional poisons’ equation ، potential distribution ، MOSFET. ، ماسفت سیلیکون روی الماس با عایق دولایه ، معادلات پوواسون دوبعدی ، توزیع پتانسیل ، ماسفت

نویسندگان

مجید حیدرزاده

Faculty of Engineering, Shahrekord University

آرش دقیقی

Faculty of Engineering, Shahrekord University

زهرا سپهری

Department of Electrical and Computer Engineering

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • Nayak, P. A Study of Technology Roadmap for Application-Specific Integrated ...
  • Ratnesh, R., et al. "Advancement and challenges in MOSFET scaling" ...
  • Sviličić, B., et al. "Analysis of subthreshold conduction in short-channel ...
  • Monfray, S. and T. Skotnicki, "UTBB FDSOI: Evolution and opportunities." ...
  • Jean-Pierre Colinge, Silicon-on-Insulator: Materials to VLSI, Springer, Boston, MA, ۳rd ...
  • Kansal, H. and A. S. Medury, “Short-Channel Effects and Sub-Surface ...
  • Ahn, C-G., et al., "۳۰-nm recessed S/D SOI MOSFET with ...
  • Su, E. M.-h., et al., “Effects of BOX thickness, silicon ...
  • Daghighi, A., “Output-Conductance Transition-Free Method for Improving the Radio-Frequency Linearity ...
  • Daghighi, A., “A novel structure to improve DIBL in fully-depleted ...
  • Raleva, K., et al., "Is SOD technology the solution to ...
  • Di Santa Maria, F. S. et al. “Low temperature behavior ...
  • Daghighi, A. and S. Zamani, "Investigation of Temperature Effects in ...
  • Daghighi, A., Double insulating silicon on diamond device, USPTO Patent, ...
  • Liu, X., et al. “Electrical performance of ۱۳۰ nm PD-SOI ...
  • ]۱۶[ دقیقی آرش، حسینی زهرا، بررسی و شبیه سازی تاثیر ...
  • Sviličić, B., et al., "Analytical models of front-and back-gate potential ...
  • ]۱۸[ سپهری زهرا و دقیقی آرش ، بدست آوردن رابطه ...
  • Nayak, P. A Study of Technology Roadmap for Application-Specific Integrated ...
  • Ratnesh, R., et al. "Advancement and challenges in MOSFET scaling" ...
  • Sviličić, B., et al. "Analysis of subthreshold conduction in short-channel ...
  • Monfray, S. and T. Skotnicki, "UTBB FDSOI: Evolution and opportunities." ...
  • Jean-Pierre Colinge, Silicon-on-Insulator: Materials to VLSI, Springer, Boston, MA, ۳rd ...
  • Kansal, H. and A. S. Medury, “Short-Channel Effects and Sub-Surface ...
  • Ahn, C-G., et al., "۳۰-nm recessed S/D SOI MOSFET with ...
  • Su, E. M.-h., et al., “Effects of BOX thickness, silicon ...
  • Daghighi, A., “Output-Conductance Transition-Free Method for Improving the Radio-Frequency Linearity ...
  • Daghighi, A., “A novel structure to improve DIBL in fully-depleted ...
  • Raleva, K., et al., "Is SOD technology the solution to ...
  • Di Santa Maria, F. S. et al. “Low temperature behavior ...
  • Daghighi, A. and S. Zamani, "Investigation of Temperature Effects in ...
  • Daghighi, A., Double insulating silicon on diamond device, USPTO Patent, ...
  • Liu, X., et al. “Electrical performance of ۱۳۰ nm PD-SOI ...
  • ]۱۶[ دقیقی آرش، حسینی زهرا، بررسی و شبیه سازی تاثیر ...
  • Sviličić, B., et al., "Analytical models of front-and back-gate potential ...
  • ]۱۸[ سپهری زهرا و دقیقی آرش ، بدست آوردن رابطه ...
  • نمایش کامل مراجع