تاثیر تغییر فرکانس در فرایند رسوب دهی الکتروشیمیایی پالسی بر ترکیب و مورفولوژیپوشش آلیاژ آنتروپی بالای CoCrFeMnNi

در این پژوهش تاثیر تغییر فرکانس پوشش دهی از 2500 به 5000 هرتز در سیکل کاری ثابت 60% بر ترکیب و مورفولوژی سطح پوشش لایه نازک الیاژ انتروپی بالای CoCrFeMnNi سنتز شده به روش رسوب دهی الکتروشیمیایی پالسی مورد بررسی قرار گرفته است. پوششی آلیاژی از یک حمام کلریدی با حلال آلی دی متیل فرم آمید و استونیتریل، بر روی زیر لایه ی فلزی مفتول مسی، حاصل شده است. تغییرات میکروساختار، ترکیب شیمیایی و مورفولوژی پوشش ها به ترتیب به کمک پراش پرتو ایکس لایه های نازک GXRD، طیف سنجی پراش انرژی پرتو ایکس EDS و میکروسکوپ الکترونی روبشی SEM مورد بررسی قرارگرفته است. نتایج حاصل از انالیز EDS نشان داد که تمامی عناصر با موفقیت بر روی زیر لایه مسی رسوب داده شده و با تغییر آنتروپی اختلاط در حدود J/Kmol 12، در محدوده تشکیل آلیاژ آنتروپی بالا، بوده است. نتایج حاصل از آنالیز GXRD، تشکیل ساختار محلول جامد با شبکه FCC را تایید نمود. در سطح پوشش ایجاد شده در فرکانس 2500 هرتز ذرات به صورت غیر کروی و آگلومره بوده واندازه کریستالیت ها در حدود 217 نانومتر محاسبه شده است. مورفولوژی پوشش ایجادشده در فرکانس 5000 هرتز دارای ترک های برآمدگی ها و تاول های هیدروژنی و همچنین ذرات غیر کروی در سطح پوشش بوده و اندازه کریستالیت ها در حدود 109 نانومتر اندازه گیری شده است.

کلیدواژه ها:

آلیاژ آنتروپی بالا ، پوشش لایه نازک ، رسوبدهی الکتروشیمیایی پالسی ، حمام کلریدی ، حلال آلی