اصلاح خواص تشعشعی SiO2 و BaTiO3 با ایجاد پوشش های لایه نازک بهینه برای کاربرد به عنوان آینه حرارتی

با استفاده از آینه های حرارتی با ضریب عبور بالا در ناحیه ی نور مرئی و ضریب بازتاب بالا در محدوده ی مادون قرمز، می توان علاوه بر تامین روشنایی، از اتلاف انرژی به روش تشعشع تا حد زیادی جلوگیری کرد. در این مقاله سعی شده با در نظر گرفتن پوشش های لایه نازک بر روی SiO2 و BaTiO3 با تغییر خواص تشعشعی طیفی، پوشش های مناسبی جهت کاربرد به عنوان آینه حرارتی معرفی شود. خواص تشعشعی ساختارهای لایه نازک به کمک فرمولاسیون ماتریسی محاسبه شده و ضخامت و جنس لایه ها به دوروش الگوریتم ژنتیک و عملیات حرارتی شبیه سازی شده بهینه سازی شده تا خواص تا حد امکان به یک آینه حرارتی نزدیک شوند. به کمک پوشش های لایه نازک معرفی شده روی SiO2 می توان به قیمت کاهش 10 تا 30 درصد در ضریب عبور ناحیه نور مرئی، ضریب بازتاب ناحیه مادون قرمز را تا بیش از 5 برابر افزایش داد همچنین BaTiO3 بدون پوشش به عنوان یک آینه حرارتی نسبتا مناسب برای اولین بار مورد بررسی قرار گرفته است

کلیدواژه ها:

انتقال حرارت تشعشعی ، انتقال حرارت در ابعاد نانو ، خواص تشعشعی ، آینه های حرارتی ، بهینه سازی