تهیه و مطالعه لایه نازک FeSx به کمک روش رسوب گذاری فتوشیمیایی
محل انتشار: کنفرانس فیزیک ایران 1387
سال انتشار: 1387
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,008
متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
IPC87_096
تاریخ نمایه سازی: 24 آذر 1388
چکیده مقاله:
لایه ھای نازک FeSx با استفاده از روش جدید رسوب گذاری فتوشیمیایی بر روی زیرلایه از جنس ITO با استفاده از محلول آبی شامل سولفات آهن (FeSO4) و تیوسولفات سدیم (Na2S2O3) تھیه گردیدند. ازمایشات با و بدون حضور پودر آهن انجام پذیرفت. یک لایه خیلی نازک غنی از لحاظ گوگرد به هنگام عدم استفاده از پودر آهن به دست امد. اما لایه نشانی با استفاده از پودر آهن که روی زیر لایه و نزدیک محل تابش چسبانده شده بود منجر به ایجاد لایه های سیاه غنی به لحاظ آهن و ضخامتی بزرگتراز یک میکرون گردید. لایه های تهیه شده به کمک آزمایشات AES، PEC و XRD, SEM مورد بررسی کیفی قرار گرفتند. اندازه گیری فوتوالکترو شیمی (PEC) نشان داد که لایه FeSx رسانش نوع n داشته و دارای خاصیت فوتورسانایی است.
نویسندگان
حمیدرضا قلی پور دیزجی
آزمایشگاه رشد بلور، گروه فیزیک، دانشگاه سمنان
ماساکی ایچی مورا
دپارتمان مھندسی فیزیک، الکترونیک و مکانیک، انستیتو تکنولوژی ناگویا
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :