بررسی اثر دمای زیرلایه، نسبت گازها و میزان شار گازهای عملگر بر میزان زبری لایه ذاتی سیلیکن آمورف هیدروژنه لایه نشانی شده روی شیشه به وسیله سیستم PECVD

در این نوشتار با استفاده از سیستم لایه نشانی PECVD و کنترل میزان سایلان در نسبت ثابت، میزان گازهیدروژن به سایلان، و دمای زیرلایه ، به بررسی اثرات این پارامترها بر میزان زبری لایه ذاتی سیلیکن آمورفهیدروژنه پرداخته شده است. جنس زیر لایه در مجموعه این آزمایشها از شیشه انتخاب شده است. برای اینمنظور 9 نمونه لایه نشانی شده در شرایط مختلف مورد ارزیابی قرار گرفته است. نسبت گاز هیدروژن بهسایلان در این نوشتار [RH = [H2]/ [SiH4 بین 20 تا 60، دما بین 50 تا 200 درجه سانتیگراد و میزان گاز سایلان با نسبت ثابت 10 از 5 تا 10 سانتیمتر مکعب بر دقیقه استاندارد در نظر گرفته شده است. در این بررسیاین نتیجه حاصل شد که در بازه مورد آزمایش با کاهش میزان گاز سایلان، نرخ لایه نشانی کاهش، و میزانزبری نیز کاهش می یابد. با افزایش میزان نسبت گاز هیدروژن به سایلان نیز شاهد کاهش نرخ لایه نشانی وکاهش میزان زبری خواهیم بود. با افزایش میزان دمای زیرلایه، شاهد کاهش میزان زبری لایه سیلیکن آمورفهیدروژنه خواهیم بود. بنابراین برای داشتن لایه ای آمورف با زبری کم در بازه مورد بررسی می بایست نسبتگازها افزایش، میزان گاز سایلان کاهش و میزان دمای زیرلایه افزایش یابد. در انتها با قرار دادن نسبت گازها به0125 میزان گاز سایلان به 0/88sccm و دمای زیرلایه 200 درجه سانتیگراد به لایه ای با زبری 669 پیکومتر دست یافته شده است.

کلیدواژه ها:

زبری ، سیلیکن آمورف هیدروژنه ، رسوب بخار شیمیایی ، فیلم نازک ، لایه نشانی ، سلول خورشیدی ، میکروسکوپ نیروی اتمی ، AFM ، PECVD