بررسی اثر پارامترهای رسوبدهی الکتروشیمیایی پالسی بر درصد ترکیب و ضخامت لایه آلیاژی طلا

نتایج کار حاضر، نشان دهنده بهینه سازی پارامترهای موثر در تثبیت درصد طلا و ضخامت لایه آلیاژ Au-Cu بر روی الکترود نقره خالص است. پارامترهای ویژه در این روش شامل میانگین چگالی جریان، درصد چرخه کاری، دمای حمام،غلظت یونهای طلا و سیانید در الکترولیت، pH، تلاطم محلول و اثر افزودنی ترکننده به منظور رسیدن به درصد طلا با عیار استاندارد Au 75 wt.%) 18K و (Cu 25 wt.%، با روش یک عامل در یک زمان بهطور موثری بهینهسازی شدند. تحت شرایط بهینه مذکور و تثبیت مقدار درصد طلا در آلیاژ، با تغییرات درصد چرخه کاری (از 20 الی90 درصد) ضخامت لایه ها نیز بهینه سازی شدند. ضخامت مقاطع عرضی نمونه ها و درصد طلا در لایه های ترسیب شده به وسیله SEM-EDX، XRF و ICP-OES مورد بررسی قرار گرفت. شرایط بهینه از نقطه نظر مقدار Au همرسوب شده با Cu و ضخامت لایه های ایجاد شده( تعیین شد. نتایج نشان داد که لایه آلیاژی Au-Cu شکل گرفته در چرخه کاری%30 و چگالی جریان متوسط 0/6mA/CM2( به عنوان لایه ایجاد شده در شرایط بهینه دارای 74/4wt.% طلا و ضخامت 202 بود.

کلیدواژه ها:

رسوبدهی الکتروشیمیایی ، چگالی جریان متوسط ، روش یک عامل در یک زمان ، آلیاژ طلا-مس ، درصد چرخه کاری ، ضخامت لایه آلیاژی ، درصد ترکیب آلیاژ