بررسی اثر زیر لایه های مختلف در رشد نانو میله های اکسید تنگستن

دراین تحقیق نانو میله هایی اکسید تنگستن با حرارت دادن لایه نازک تنگستن در شرایط مشخص و کنترل شده که با روش اسپاترینگ مغناطیسی بر روی سطح زیرلایه های میکا سودالیم و کوارتز لایه نشانی شده رشد داده شدند.با استفاده از تکنیک میکروسکوپی الکترونی روبشی ریخت شناسی شکل ابعاد و توزیع آنها در سطح و همچنین با استفاده از پراش اشعه ایکس تعیین فازها و ساختار کریستالی نانو میله ها بررسی شدند.طول و پهنای نانو میله های رشد داده شده برروی زیر لایه سودالیم به ترتیب در محدوده 1-3و27-300 اندازه گیری گردید و جهت گیری رشد کریستالی آنها در راستای 100 تعیین شدند.همچنین طول و پهنای نانو میله های رشد داده شده بر روی زیر لایه میکا به ترتیب در محدوده 5-20و200-500 و جهت گیری رشد کریستالی آنها در راستای 400 تعیین گردید.برای روی سطح زیر لایه کوارتز دز شرایط مورد آزمایش هیچگونه نانو میله ای مشاهده نگردید.