مطالعه ی اثر شار نیتروژن بر روی پلیمریزاسیون پلاسمایی و خواص ساختاری لایه های SiOxNy تولید شده توسط سیستم فرکانس رادیویی با کوپل خازنی

لایه نازک های سیلیکون اکسی نیتراید بر روی زیرلایهی پلیمری پلی اتیلن ترفتالات به روش رسوب گذاری بخار شیمیایی پلاسمایی لایه نشانی گردید. در تولید لایه ها از مخلوط گازی پیش ماده (آلی -سیلیکاتی) تترااتیل اور توسیلیکات، اکسیژن و نیتروژن استفاده شد. همچنین برای تولید پلاسما، منبع تغذیه ی پلاسمای کوپل خازنی با فرکانس رادیویی MHZ 13 / 56 مورد استفاده قرار گرفت و اثر افزایش شار نیتروژن در پلاسما و بر روی خواص اپتیکی و ساختاری لایه ها مطالعه شد. برای مشخصه یابی پلاسمای تولید شده در روند آزمایش، از آنالیز طیف سنجی گسیلی نوری استفاده شد و بررسی ضریب شکست لایه ها و ضخامت آنها توسط آنالیز بیضی سنجی صورت گرفت. همچنین به منظور بررسی میزان ترشوندگی لایه ها آنالیز اندازه گیری زاویه ی تماس آب انجام شد.