اثر بازپخت بر ساختار لایه های نازک فاز آناتاز و روتیل TiO2
محل انتشار: دهمین سمینار ملی مهندسی سطح و عملیات حرارتی
سال انتشار: 1388
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 2,139
فایل این مقاله در 7 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
ISSE10_099
تاریخ نمایه سازی: 1 فروردین 1388
چکیده مقاله:
لایه های نازک دی اکسید تیتانیوم به روش الکتروشیمیایی در حمام استون و ید تهیه شدند. مکانیزم الکتروانباشت شامل دو پروسه است: ابتدا اکسیداسیون Ti درحضور آب و استون صورت میگیرد و در اثر حضور یون های ید خوردگی TiO2 روی آند رخ می دهد. کاتیون های +TiO2 روی آند رخ می دهد. کاتیون های TiO2+ روی سطح Cu به عنوان کاتد انباشت می شوند. بعد از پخت لایه های نازک TiO2 تشکیل شد. مورفولوژی فیلم ها وابسته به ضخامت آنها است که می تواند توسط ولتاژ بکار رفته و زمان انباشت کنترل گردد.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
ایرج کاظمی نژاد
گروه فیزیک دانشگاه شهید چمران اهواز
منصور فربد
گروه فیزیک دانشگاه شهید چمران اهواز
مژگان محسنی راد
گروه فیزیک، دانشگاه آزاد اسلامی واحد علوم و تحقیقات اهواز
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :