بررسی جهت گیری ترجیحی لایه های نازک اکسید روی (ZnO) براساس ضریب بافت آنها
محل انتشار: دهمین سمینار ملی مهندسی سطح و عملیات حرارتی
سال انتشار: 1388
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,521
فایل این مقاله در 6 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
ISSE10_034
تاریخ نمایه سازی: 1 فروردین 1388
چکیده مقاله:
در این تحقیق ، لایه های نازک اکسید روی (ZnO) به روش سل - ژل بر زیرلایه های شیشه ای لایه نشانی شدند. لایه های تهیه شده با استفاده از تکنیک پوشش دهی چرخشی، سل حاصل از منواتانول آمین (MEA) ، دی هیدرات استات روی، آب دی اکسیژنه و الکل ایزوپروپانول به دست آمدند. لایه ها پس از هر بار پوشش دهی در دمای پیش پخت 250 درجه سانتی گراد و به مدت 30 دقیقه حرارت داده شدند. سپس لایه ها، بعد از 6 بار پوشش دهی، در دماهای مختلف 300، 450 و 550 درجه سانتیگراد در هوا به مدت یک ساعت باز پخت شدند. ضخامت لایه ها با استفاده از دستگاه نمایه سنج 350mm تخمین زده شد. تأثیر دمای بازپخت بر ساختار لایه هاه از طریق آزمون پراش سنج پرتو ایکس و محاسبه ضریب بافت Tc لایه ها مورد بررسی قرار گرفت. نتایج آزمون پراش پرتو ایکس ساختاری کریستالی با جهت گیری ترجیحی صفحه (002) را نشان می دهند. نتایج حاصل از محاسبۀ Tcلایه ها نیز افزایش Tc لایه ها را در راستای (002) با افزایش دمای بازپخت نشان می دهند که تائیدی بر بهبود جهت گیری ترجیحی صفحه (002)در لایه های مورد تحقیق می باشد.
نویسندگان
داود رئوفی
گروه فیزیک دانشگاه ابوعلی سینا همدان
طه رئوفی
گروه فیزیک، دانشگاه آزاد اسلامی واحد کرج
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :