نقش سیلیکون در افزایش تحمل سرمای محیط ریشه در گیاه ذرت

دمای پایین خاک در بهار محدودیت عمده برای کشت محصولات گرمسیری در آب و هوای معتدل می باشد که مربوط به مهار رشد ریشه و فعالیت آن است. در این پژوهش تاثیر کاربرد سیلیکون در افزایش تحمل ذرت به درجه حرارت پایین در منطقه ریشه RZT در طول دوره اولیه رشد مورد آزمایش قرار گرفت. گیاه ذرت Zea mays var. colisee استفاده از یک سیستم خنک کننده ریشه جهت تنظیم RZT کشت شد. پس از جوانه زنی در 20 درجه سانتی گراد، دوره تنش سرما 12-14 درجه سانتی گراد در طی 14 روز پس از کاشت برای شبیه سازی اکسیداتیو ناشی از سرما در برگ، تولید وزن خشک، مقدار نسبی کلروفیل SPAD تراکم طول ریشه، فعالیت آنزیم سوپراکسید دیسموتاز در برگ و ریشه و وضعیت تغذیه عنصری گیاه بررسی شد. اثرات مثبت بر رشد گیاه و به ویژه در ریشه در RZT کم با کاربرد سیلیکون مشاهده شد. آسیب اکسیداتیو برگ و مهار رشد ریشه در گیاهان در معرض تنش سرما مربوط به کمبود روی بود. سیلیکون عمدتا از طریق افزایش غلظت روی و منگنز در گیاه موجب افزایش فعالیت سوپراکسید دیسموتاز در ریشه و برگ گردید. استفاده از سیلیکون یک روش با صرفه اقتصادی برای افزایش تحمل تنش سرما در گیاهان زراعی می باشد.

کلیدواژه ها:

سیلیکون ، تنش سرما ، ذرت ، دفاع آنتی اکسیداتیو ، کمبود عنصر غذایی