تهیه لایه نازک اکسیدروی با تکنیک غوطه وری و بررسی خواص ساختاری آن
محل انتشار: نهمین کنفرانس ماده چگال
سال انتشار: 1387
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,055
متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
CMC09_217
تاریخ نمایه سازی: 6 دی 1387
چکیده مقاله:
لایه های نازک اکسید روی به روش غوطه وری تهیه شده اند . آنالیز پراش XRD برای بررسی ساختار بلوری و آنالیز میکروسکوپ الکترونی (SEM) برای بررسی ساختار اکسید روی مورد استفاده قرار گرفته است . الگوی XRD پیک ( 101 ) ساختار ورتزایت اکسید روی را نشان می دهد . تصویر SEM نشان می دهد نانوذرات به طور یکنواخت روی زیرلایه شیشه ای رشد کرده اند ، که اندازه متوسط ذرات 35 نانومتر است .
نویسندگان
منصور فربد
گروه فیزیک دانشگاه شهید چمران اهواز
فروغ قبلی
گروه فیزیک دانشگاه آزاد اسلامی واحد علوم و تحقیقات اهواز
ایرج کاظمی نژاد
گروه فیزیک دانشگاه شهید چمران اهواز
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :