اثر دمای بازپخت روی خواص الکتریکی، اپتیکی و ساختاری نانوساختارهای ZnO

فیلم های ZnO روی بستره های شیشه ای در دمای اتاق به روش تبخیر پرتو الکترونی رشد داده شده اند. مشخصات الکتریکی، اپتیکی و ساختاری لایه ها نظیر مقاومت ویژه الکتریکی، تراگسیل، گاف انرژی و اندازه ی دانه بعد از باز پخت به دست آمده است. اندازه گیری های XRD نشان می دهد که قله شدت برای راستای ( 002 ) با افزایش دمای بازپخت بیشتر شده و پهنای کامل در نصف شدت بیشینه (FWHM) ، کاهش می یابد که این کیفیت بالای ساختار را نشان می دهد. اندازه گیری های SEM نشان میدهد که اندازه دانه ها با افزایش دمای بازپخت سطوح لایه های ZnO انباشته شده، بیشتر شده که با اندازه گیری های XRD مطابقت دارد.