طراحی و ساخت نانو پوشش خودآرای پلی اترایمید-کاپاکاراگنان به منظور بهبود رفتار خوردگی بر آلیاژAZ91 برای کاربردهای پزشکی
محل انتشار: دهمین همایش مشترک و پنجمین کنفرانس بین المللی انجمن مهندسی مواد و متالورژی و انجمن علمی ریخته گری ایران
سال انتشار: 1395
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 566
فایل این مقاله در 12 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
IMES10_140
تاریخ نمایه سازی: 6 اردیبهشت 1396
چکیده مقاله:
امروزه منیزیم بهدلیل خواص ویژهای نظیر دانسیته پایین، انعطافپذیری، استحکام مطلوب،غیرسمیبودن و زیستتخریبپذیربودن توجه ویژه ای را به عنوان کاشتنیهای موقت در محیط بدن، به خود جلب کردهاست. باوجوداین، مقاومت بهخوردگی کم منیزیم یکی از مهمترینمشکلات این فلز است که سبب محدودیت در کاربرد آن میشود. روشهای گوناگونی به منظور بهبود رفتار منیزیم دنبال شده که از جمله آنمی توان به آلیاژ سازی و انواع فرآیندهای پوششدهی و اصلاح سطح اشاره کرد. هدف از پژوهش حاضر بهبود رفتار خوردگی آلیاژ منیزیم از طریق ترکیبی از فرآیند اصلاح سطحی با کمک آندایزینگ و پوشش پلیمری است. بدین منظور نمونه های آلیاژAZ91 تحت عملیات آندایز در ولتاژو زمانهای مختلف قرار گرفتند و بعد از بهینهسازی پارامترهای فرایند آندایزینگ، نانو پوششی از پلیمرهای زیست سازگار و غیرسمی پلیاترایمید و کاپاکاراگناین به روش خودآرایی بر روی آنها ، ایجاد شد. نتایج حاصل به کمک آزمون خوردگی و میکروسکوپ الکترونی مورد ارزیابی قرار گرفت. نتایج نشانداد که دو مرحله پوششدهی سبب بهبود قابل توجه مقاومت در برابر خوردگی آلیاژAZ91 شد
کلیدواژه ها:
نویسندگان
عاطفه گل شیرازی
کارشناسی ارشد مهندسی مواد، دانشگاه صنعتی اصفهان
مهشید خرازیها
عضو هیات علمی دانشکده مهندسی مواد، دانشگاه صنعتی اصفهان
محمدعلی گلعذار
عضو هیات علمی دانشکده مهندسی مواد، دانشگاه صنعتی اصفهان
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :