Investigating the Effect of Thickness on the Performance of ZnO-based DSSC by Electrochemical Impedance Spectroscopy Technique

سال انتشار: 1394
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: انگلیسی
مشاهده: 390

متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

ELECTROCHEMISTRY011_236

تاریخ نمایه سازی: 5 بهمن 1395

چکیده مقاله:

Due to the unique properties of ZnO nanostructures, they are widely used as photoanode substrate in dye sensitized solar cells (DSSCs). In the present study, a composite of ZnOnanoparticles paste was synthesized by sonochemical method. The composite was made using two different nanoparticles approximately 35 and 350 nanometers particle sizes considering the respect ratio of 3:1 involving the main and scattered layers. To investigate the cell performance,different ZnO film thicknesses of photoelectrodes were prepared to obtain efficient performance. The cells were fabricated using N719 ruthenium dye and all photovoltaic parameters such asshort circuit current density (JSC), open circuit voltage (VOC), fill factor (FF) and conversion efficiency (η) measured as well. Electrochemical impedance spectroscopy (EIS) as a powerful technique was employed to determine an appropriate equivalent circuit for studying the electron lifetime, charge transport and transfer resistances in all fabricated cells where the EIS resultsshow appropriate agreement with the measured device performance parameters. The results demonstrate the ZnO thickness is a critical parameter for providing sufficient resistance to suppress the charge recombination process and transporter electrons. Consequently the highestoverall power conversion efficiency (3.61%) was obtained where the thickness of photoelectrode was optimized around 21-μm-thick by doing three times Dr. Blade deposition method.

نویسندگان

e Kouhestanian

Thin Layer and Nanotechnology Laboratory, Department of Chemical Technology, Iranian Research Organization for Science and Technology (IROST), P.O. Box 33535-111, Tehran, Iran

s.a Mozaffari

Thin Layer and Nanotechnology Laboratory, Department of Chemical Technology, Iranian Research Organization for Science and Technology (IROST), P.O. Box 33535-111, Tehran, Iran

m Ranjbar

Thin Layer and Nanotechnology Laboratory, Department of Chemical Technology, Iranian Research Organization for Science and Technology (IROST), P.O. Box 33535-111, Tehran, Iran

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :