تاثیر مقاومت بدنه بر بهبود ولتاژ شکست ترانزیستورهای سیلیکون روی عایق جزئی تهی شده با طول کانال 45 نانومتر

سال انتشار: 1394
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 516

فایل این مقاله در 8 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

ICEECS02_053

تاریخ نمایه سازی: 9 مرداد 1395

چکیده مقاله:

دراین مقاله به بررسی تاثیر مقاومت بدنه بر فرآیند شکست ترانزیستور های ماسفت سیلیکون روی عایق جزئی تهی شده می پردازیم تاثیر میزان مقاومت بدنه بر جریان حفره های ناشی از پدیده ی یونیزاسیون برخوردی و عملکرد ترانزیستور دو قطبی پارازیتی به عنوان عامل شکست نشان داده می شود در این راستا با مدل کردن مقاومت بدنه و تغییر آن و انجام شبیه سازی تاثیر تغییرات مقاومت بدنه را بر جریان حفره های تولیدی ناشی از پدیده یونیزاسیون برخوردی و مولفه های جریانی ترانزسیتور دو قطبی پارازیتی بررسی می کنیم نشان می دهیم که با کاهش مقاومت بدنه می توان فیدبک مثبتی که توسط این ترانزیستور دو قطبی پارازیتی به وجود می آید را تضعیف کرد و مکانیسم شکست را تعدیل کرد و ولتاژ شکست را بهبود بخشید نتایج شبیه سازی نشان دهنه ی بهبود 10 درصدی ولتاژ شکست ترانزیستور با مقامت بدنه 50kΩ نسبت به همان ترانزیستور با مقاومت بدنه 100kΩ می باشد

کلیدواژه ها:

مقاومت بدنه ، ولتاژ شکست ، ماسفت سیلیکون روی عایق جزئی تهی شده ، یونیزاسیون برخوردی

نویسندگان

نازنین مختاری

دانشکده مهندسی برق واحد نجف آباد دانشگاه آزاد اسلامی نجف آباد ایران

آرش دقیقی

دانشکده فنی و مهندسی دانشگاه شهرکرد ایران

مهدی دولتشاهی

دانشکده مهندسی برق واحد نجف آباد دانشگاه آزاد اسلامی نجف آباد ایران

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • JP. Colinge; S i li con-on -Insulator Technology Materials to ...
  • F. L. Duan, S. P. Sinha, D. E. Ioannou, and ...
  • K. Noda, T. Tatsumi, and T. Uchida et al., _ ...
  • M. Jagadesh Kumar, Senior Member, IEEE, and Vikram Verma, " ...
  • Vikram Verma and M. Jagadesh Kumar "Study of the Extended ...
  • Jin-Hyeok Choi, Young-June Park, Member, ZEEE, and Hong- Sh i ...
  • Mohammad K. Anvarifard, Student, and Ali Asghar Orouji, Improvement of ...
  • TSUPREM4, Process Simulator. Palo Alto, CA: Technol. Model.Assoc. ...
  • Dongwook Suh and Jerry G. Fossum, " The Effect of ...
  • S. Schwantes, J.Firthaler, B. Schauwecker, F.Dietz, M. Graf, and V.Dudek, ...
  • نمایش کامل مراجع