سنتز و بررسی لایه های نازک جهت ثبت تمام نگاری

محیط های ثبت تصاویر تمام نگاری می توانند هالیدهای نقره یا محیط نور شکست مانند بیسموت سیلیکات اکساید و بیسموت ژرمانات باشند. اما امروزه استفاده ذرات اکسید فلزی در ماتریس پلیمری نیز بسیار مورد توجه قرار گرفته است. در این پژوهش سعی شده است از اکسید روی ZnO در ماتریس پلیمری PVA برای ثبت تمام نگاری استفاده شود. لایه ای از این مخلوط به روش اسپین بر بستر شیشه ای نشانده شده است. مشخصات جذب و نشر محیط با استفاده از طیف سنجی ماورای بنفش UV-Vis و FTIR از نمونه ها مطالعه گردیده است. همچنین طیف نگاری اشعه ایکس XRD و اسکن میکروسکوپ الکترونی STM و AFM از نمونه تهیه گرید.مقایسه جداول و نمودارهای طیف سنجی UV نشان داد که در طول موج های 3420cm -1 و 2921cm-1 و 1384cm-1 و 1060cm -1 جذب وجود دارد. همچنین تصاویر STM و AFM نمونه نشان داد اندازه نانو ذرات حدود 35nm می باشد و طیف نگاری XRD نشان داد که ذرات موجود در پلیمر همان نانو دذرات اکسید روی می باشند. انرژی جذب شده می تواند خواص فیزیکی لایه پلیمر مانند ضریب شکست و یا فوتور فرکتوری را تغییر داده و موجب ثبت تصویر شود.

کلیدواژه ها:

تمام نگاری ، نور شکست ، فوتورفرکتوری ، نانو ذره ، اکسید روی ، لیزر