طراحی و ساخت منبع تغذیه جریان مستقیم پالسی به منظور لایه نشانی ترکیبات نارسانا در روش کندوپاش مغناطیسی
محل انتشار: نخستین کنفرانس سراسری فیزیک و کاربردهای آن
سال انتشار: 1391
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 2,512
فایل این مقاله در 7 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
NCPHYAPP01_073
تاریخ نمایه سازی: 17 اردیبهشت 1392
چکیده مقاله:
یک منبع تغذیه جریان مستقیم پالسی دو قطبی برای استفاده در سیستم کندوپاش مغناطیسی جهت پوشش دهی لایه های نازک نارسانا (Al2O3, NaxCo2O4, ITO, ZnO) ساخته شده است. منبع تغذیه از سه قسمت اصلی تشکیل شده است، (1) منابع تغذیه مستقم ولتاژ بالا با مدار های کنترل فاز و چند برابر کننده های ولتاژ، (2) مدار تولید کننده پالس قابل برنامه ریزی برای کنترل سوئیچ های قدرت، (3) مدارهای کنترل، حفاظت و اندازه گیری. پهنای پالس و دامنه ولتاژ منفی و مثبت بطور جداگانه قابل تعیین است. ولتاژ پیک تا پیک 1000V به صورت متقارن و یا نامتقارن با ماکزیمم جریان 2A بصورت منبع ولتاژ ثابت و یا منبع جریان ثابت با پهنای پالس حدود 10~100~Sµ با محدوده فرکانسی 8~22kHz تحت با اهمی بدست آمده است.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
سید محمود محاطی
پژوهشکده تحقیقات کشاورزی، پزشکی و صنعتی، پژوهشگاه علوم و فنون هسته ای
محمدرضا قاسمی
پژوهشکده تحقیقات کشاورزی، پزشکی و صنعتی، پژوهشگاه علوم و فنون هسته ای
ضرغام اسدالهی
پژوهشکده تحقیقات کشاورزی، پزشکی و صنعتی، پژوهشگاه علوم و فنون هسته ای
پروین بلاش آبادی
پژوهشکده تحقیقات کشاورزی، پزشکی و صنعتی، پژوهشگاه علوم و فنون هسته ای
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :