کنترل تابش گرمایی در بلور فوتونیکی سیلیکونی برای کاربردهای ترموفوتوولتائیک
محل انتشار: چهارمین همایش ملی مهندسی اپتیک و لیزر ایران
سال انتشار: 1394
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 553
متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
NCOLE04_114
تاریخ نمایه سازی: 30 دی 1394
چکیده مقاله:
در این تحقیق به بررسی کنترل تابش گرمایی توسط بلور فوتونیکی دو بعدی سیلیکونی حفره ای با ساختار شش گوشی پرداخته شده است. به منظور مشاهدهی گاف های اپتیکی مربوط به راستاهای مختلف بلوری، ساختار نواری با استفاده ازروش PWE محاسبه شده است همچنین با محاسبه ی طیف جذب به روش FDTD و با استفاده از قانون کیرشهف طیف تابش گرمایی درناحیه 1mm تا 10mm محاسبه و باطیف تابشی جسم سیاه مقایسه شده است نتایج محاسبات نشان می دهد که می توان از قابلیت کنترل مکان گاف نواری بلور فوتونیکی سیلیکونی از طریق تنظیم پارامترهای شبکهیدورهای آن برای کنترل طیف تابش گرمایی و افزایش بازدهی سیستمهای ترموفوتوولتائیک استفاده کرد
کلیدواژه ها:
بلور فوتونیکی ، گاف اپتیکی ، تابش گرمایی ، روش بسط امواج تخت ، روش تفاضل متناهی در ، حوزهی زمان ، ، سامانه ترموفوتوولتائیک
نویسندگان
میثم دانشور
پژوهشکده ی الکتروسرام و فناوری های راداری، دانشگاه صنعتی مالک اشتر، اصفهان، شاهین شهر
علی رستم نژادی
پژوهشکده ی الکتروسرام و فناوری های راداری، دانشگاه صنعتی مالک اشتر، اصفهان، شاهین شهر
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :