تاثیر بایاس زیرلایه بر ساختار و مورفولوژی پوششهای تانتالم لایه نشانی شده بر روی آلیاژ نیکل تیتانیم به روش کندوپاش مغناطیسی

روش کندوپاش مغناطیسی برای لایه نشانی پوششهای تانتالم بر روی آلیاژ نیکل تیتانیم تحت اتمسفر آرگون در دو حالت بدون بایاس و بایاس منفی، زیرلایه استفاده شده است. هدف اصلی این پژوهش بر این است که چگونه بایاس زیرلایه می تواند بر خواص مورفولوژیکی و ریز ساختار پوششها تاثیر داشته باشد. از مطالعات FESEM، EDS و GI-XRD به ترتیب برای تعیین میزان تاثیر بایاس بر مورفولوژی و ریز ساختار پوشش استفاده شده است. بررسی های FESEM نشان داده است که پوشش لایه نشانی شده در حالت بدون بایاس ریز ساختار یکنواخت تر و متراکم تری دارد در حالی که ترک ها و ذرات گرد مانندی در سطح پوشش لایه نشانی شده در بایاس ۷۵- ظاهر شده است. الگوهای GI-XRD نشان می دهد که لایه نشانی در دمای اتاق به تشکیل ساختار آمورف منجر شده است با این حال یک پیک از فاز Ta۲O با ساختار مکعبی در نمونه ی بدون بایاس در زاویه ی حدود ۴۶/۹۴ ظاهر شده است.

کلیدواژه ها:

کندوپاش مغناطیسی ، ولتاژ بایاس ، تانتالم ، آلیاژ حافظه دار نیکل-تیتانیم