تولید لایه های نازک نانومتری مس / نیکل به وسیله فرایند آبکاری الکتریکی و بررسی تاثیر جریان پالسی بر کاهش ضخامت لایه ها

در این تحقیق آبکاری الکتریکی لایه های نازک نانومتری مس / نیکل مورد بررسی قرار گرفت . لایه های نازک نانومتری که در آنها یک لایه مغناطیسی باشد و لایه مجاور غیر مغناطیسی باشد دارای خاصیت " ابررسانائی مغناطیسی " GMR ) هستند و در ساخت هدهای کامپیوتر از آنها استفاده می شود . از حمام واتس برای آبکاری لایه های نیکل و از حمام اسیدی سولفات مس برای آبکاری لایه های مس استفاده شد . با بهینه سازی شدت جریان و زمان آبکاری که از پارامترهای مهم این فرآیند می باشند لایه های نازک نانومتری نیکل 50) نانومتر ) و مس 100) نانومتر ) ساخته شد و با استفاده از میکروسکوپ الکترونی عبوری ساختار آنها مورد بررسی قرار گرفت . نتایج حاصل از آبکاری با جریان پالسی حاکی از این بود که با اعمال یک جریان پالسی مطلوب می توان زمان بحرانی و در نتیجه ضخامت لایه ها را تا 1 ⁄ 4 کاهش داد .