مقایسه الگوپذیری دو پلیمر Photoresist و SU-8 طی فرایند نانولیتوگرافی توسطAFM
محل انتشار: کنفرانس فیزیک ایران 1386
سال انتشار: 1386
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,680
متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
IPC86_065
تاریخ نمایه سازی: 20 دی 1385
چکیده مقاله:
در این تحقیق، با استفاده از میکروسکوپ نیزوی اتمی (AFM) عمل لیتوگرافی در ابعاد نانومتری بر روی پلیمرهای Photoresist و SU-8 به عنوان ماسک توسط روش لایه نشانی چرخشی تهیه گردید . سپس الگوپذیری بر سطح این دو پلیمر از نظر تغییر شکل پلاستیکی Si انجام شد . ماسک های مزبور بر سطح زیر لایه در حین فرایند لیتوگرافی برروی دو پلیمر، تحقیق گشته AFM با استفاده از تحلیل ارتفاع خطوط ایجاد شده بررسی شد . به علاوه اثر افزایش سرعت روبش سوزن است
نویسندگان
محمد عبدالاحد
دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف
امید اخوان
دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف
سودابه واثقی نیا
دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف
علیرضا مشفق
دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف، پژوهشکده علوم و فناوری نانو،دانشگ
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :