Publisher of Iranian Journals and Conference Proceedings

Please waite ..
ناشر تخصصی کنفرانسهای ایران
ورود |عضویت رایگان |راهنمای سایت |عضویت کتابخانه ها
عنوان
مقاله

مقایسه الگوپذیری دو پلیمر Photoresist و SU-8 طی فرایند نانولیتوگرافی توسطAFM

کنفرانس فیزیک ایران 1386
سال انتشار: 1386
کد COI مقاله: IPC86_065
زبان مقاله: فارسیمشاهده این مقاله: 1,464
متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.

خرید و دانلود فایل مقاله

متن کامل (فول تکست) این مقاله منتشر نشده و یا در سایت موجود نیست و امکان خرید آن فراهم نمی باشد.

مشخصات نویسندگان مقاله مقایسه الگوپذیری دو پلیمر Photoresist و SU-8 طی فرایند نانولیتوگرافی توسطAFM

محمد عبدالاحد - دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف
امید اخوان - دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف
سودابه واثقی نیا - دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف
علیرضا مشفق - دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف، پژوهشکده علوم و فناوری نانو،دانشگ

چکیده مقاله:

در این تحقیق، با استفاده از میکروسکوپ نیزوی اتمی (AFM) عمل لیتوگرافی در ابعاد نانومتری بر روی پلیمرهای Photoresist و SU-8 به عنوان ماسک توسط روش لایه نشانی چرخشی تهیه گردید . سپس الگوپذیری بر سطح این دو پلیمر از نظر تغییر شکل پلاستیکی Si انجام شد . ماسک های مزبور بر سطح زیر لایه در حین فرایند لیتوگرافی برروی دو پلیمر، تحقیق گشته AFM با استفاده از تحلیل ارتفاع خطوط ایجاد شده بررسی شد . به علاوه اثر افزایش سرعت روبش سوزن است

کد مقاله/لینک ثابت به این مقاله

کد یکتای اختصاصی (COI) این مقاله در پایگاه سیویلیکا IPC86_065 میباشد و برای لینک دهی به این مقاله می توانید از لینک زیر استفاده نمایید. این لینک همیشه ثابت است و به عنوان سند ثبت مقاله در مرجع سیویلیکا مورد استفاده قرار میگیرد:

https://civilica.com/doc/22374/

نحوه استناد به مقاله:

در صورتی که می خواهید در اثر پژوهشی خود به این مقاله ارجاع دهید، به سادگی می توانید از عبارت زیر در بخش منابع و مراجع استفاده نمایید:
عبدالاحد، محمد و اخوان، امید و واثقی نیا، سودابه و مشفق، علیرضا،1386،مقایسه الگوپذیری دو پلیمر Photoresist و SU-8 طی فرایند نانولیتوگرافی توسطAFM،کنفرانس فیزیک ایران 1386،یاسوج،https://civilica.com/doc/22374

در داخل متن نیز هر جا که به عبارت و یا دستاوردی از این مقاله اشاره شود پس از ذکر مطلب، در داخل پارانتز، مشخصات زیر نوشته می شود.
برای بار اول: (1386، عبدالاحد، محمد؛ امید اخوان و سودابه واثقی نیا و علیرضا مشفق)
برای بار دوم به بعد: (1386، عبدالاحد؛ اخوان و واثقی نیا و مشفق)
برای آشنایی کامل با نحوه مرجع نویسی لطفا بخش راهنمای سیویلیکا (مرجع دهی) را ملاحظه نمایید.

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :

  • Parisse, P., Verna, A., Rinaldi, M., Bussolotti, F., Grossi, V., ...
  • Geottert.J, Datta P. , Microsystem Tech nolo0gies, 2007, 1 3 ...
  • Gaubert, H.E, Frey, W. _ Nanotech nolo0gy 2007, 18, P13. ...
  • Yang H. , Lee h., Lee J., Proceedings of International ...
  • Takem ura, Y. , Shirakashi, J. , Journal of ...
  • Magnetism and Magnetic MateriaIs, 2006, 304, P 19. ...
  • Rezek, B, Garrido, J.A, Stutzm ann, M., ...
  • NJebel, CE.E, Snidero, E., Bergonzo, .P, Physica Status Solidi (A) ...
  • H.D.F. Filho, M.H.P. Mauricio, C.R. Ponciano, R. Prioli, Mater. Sci. ...
  • S. Kassavetis, K. Mitsakakis, S. Logothetidis, Mater. Sci. Eng. C ...

مدیریت اطلاعات پژوهشی

صدور گواهی نمایه سازی | گزارش اشکال مقاله | من نویسنده این مقاله هستم

اطلاعات استنادی این مقاله را به نرم افزارهای مدیریت اطلاعات علمی و استنادی ارسال نمایید و در تحقیقات خود از آن استفاده نمایید.

علم سنجی و رتبه بندی مقاله

مشخصات مرکز تولید کننده این مقاله به صورت زیر است:
نوع مرکز: دانشگاه دولتی
تعداد مقالات: 14,815
در بخش علم سنجی پایگاه سیویلیکا می توانید رتبه بندی علمی مراکز دانشگاهی و پژوهشی کشور را بر اساس آمار مقالات نمایه شده مشاهده نمایید.

مقالات مرتبط جدید

به اشتراک گذاری این صفحه

اطلاعات بیشتر درباره COI

COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.

کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.

پشتیبانی