CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)

مقایسه الگوپذیری دو پلیمر Photoresist و SU-8 طی فرایند نانولیتوگرافی توسطAFM

عنوان مقاله: مقایسه الگوپذیری دو پلیمر Photoresist و SU-8 طی فرایند نانولیتوگرافی توسطAFM
شناسه ملی مقاله: IPC86_065
منتشر شده در کنفرانس فیزیک ایران 1386 در سال 1386
مشخصات نویسندگان مقاله:

محمد عبدالاحد - دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف
امید اخوان - دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف
سودابه واثقی نیا - دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف
علیرضا مشفق - دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف، پژوهشکده علوم و فناوری نانو،دانشگ

خلاصه مقاله:
در این تحقیق، با استفاده از میکروسکوپ نیزوی اتمی (AFM) عمل لیتوگرافی در ابعاد نانومتری بر روی پلیمرهای Photoresist و SU-8 به عنوان ماسک توسط روش لایه نشانی چرخشی تهیه گردید . سپس الگوپذیری بر سطح این دو پلیمر از نظر تغییر شکل پلاستیکی Si انجام شد . ماسک های مزبور بر سطح زیر لایه در حین فرایند لیتوگرافی برروی دو پلیمر، تحقیق گشته AFM با استفاده از تحلیل ارتفاع خطوط ایجاد شده بررسی شد . به علاوه اثر افزایش سرعت روبش سوزن است

صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/22374/