بررسی نظری مکانیسم های مختلف تخریب نوری الیاف پلی اتیلن ترفتالات ، پلی پروپیلن و اکریلیک وتاثیر آن ها بر میزان تخریب

پایداری مواد در شرایط مختلف جوی و توانایی آنها در حفظ خواص از اهمیت بسزایی برخوردار است. این امر در صنایع نساجی با توجه به کاربرد الیاف تولیدی در شرایط مختلف، بسیار حائز اهمیت بوده و لزوم داشتن دانش کافی درباره انواع مختلف مکانیسم های تخریب را به منظور فرایندهای پایدار سازی روشن می سازد. در این مقاله از سه لیف پلیمری اکریلیک، پلی استر و پلی پروپیلن به شکل نخ والیاف استفاده شد. در ابتدا مکانیسم تخریب آنها به صورت نظری بررسی گردید و به منظور شبیه سازی شرایط جوی (نور خورشید، رطوبت و دما) از دستگاه Xenotest 150S استفاده شد و مواد برای دوره های زمانی مختلفی تحت شرایط مشخصی قرار گرفتند. در ادامه میزان تخریب آنها در دوره های زمانی یکسان با ازمایشاتی مانند طیف سنجی مادون قرمز (FTIR)، اندازه گیری خواص مکانیکی، آنالیز ویسکومتری و تیتراسیون گروه های انتهایی، مقایسه شد. ازمایشات مذکور نشان داد که نمونه پلی پروپیلن علی رغم داشتن جاذب UV، نسبت به دو نمونه دیگر، بیشترین میزان تخریب را متحمل گردید. کمترین تخریب در نمونه اکریلیکی مشاهده شد. به عبارت دیگر می توان گفت که لیف اکریلیکی از پایداری نسبتاً خوبی در شرایط جوی برخوردار است.

کلیدواژه ها:

تخریب نوری ، مکانیسم تخریب ، پلی اتیلن ترفتالات ، پلی پروپیلن ، الیاف اکریلیک