Nichols Stability Analysis for Single Wall Carbon Nanotube Interconnects Used in 3D-VLSI Circuits
محل انتشار: بیستمین کنفرانس مهندسی برق ایران
سال انتشار: 1391
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: انگلیسی
مشاهده: 2,275
متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
ICEE20_267
تاریخ نمایه سازی: 14 مرداد 1391
چکیده مقاله:
Nichols stability analysis based on transmission line modeling (TLM) for single wall carbon nanotube (SWCNT) interconnects used in 3D-VLSI circuits is investigated for thefirst time. In this analysis, the dependence of the degree of relative stability for SWCNT interconnects on the geometry ofeach tube has been acquired. It is shown that, increasing the length and diameter of each tube, SWCNT interconnects become more stable
کلیدواژه ها:
single wall carbon nanotubes ، interconnects ، interlayer via ، transmission line method ، Nichols stability criterion
نویسندگان
Bita Davoodi
Department of Electrical Engineering, Qazvin Islamic Azad University
Rahim Faez
Department of Electrical Engineering, Sharif University of Technology
Saeed Haji Nasiri
Department of Electrical Engineering, Qazvin Islamic Azad University
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :