ارزیابی خواص نوری و ساختاری لایه نازک کربن آمورف گرافیتی انباشت شده به روش کندوپاش پرتو یونی در انرژی یون متفاوت

در تحقیق حاضر لایه نازک کربن آمورف گرافیتی به روش کندوپاش پرتو یونی بر زیرلایه شیشه انباشت شده است. تاثیر انرژی یون در محدوده گسترده از keV ۸/۱ تا keV ۵ بر خواص نوری و ساختاری لایه نازک کربن آمورف بررسی شده است. نتایج بررسی خواص نوری و ساختاری به ترتیب با استفاده از طیفسنجی مرئی- فرابنفش و طیفسنجی رامان نشاندهنده ارتباط مستقیم تحولات ساختاری و فیزیکی میباشد. نتایج بررسی طیفسنجی رامان نشاندهنده تحولات ساختاری لایه نازک کربن آمورف در محدوده تحولات گرافیتی-گرافیتی نانوکریستالی میباشد. اندازهگیری طیف عبور نمونهها، افزایش میزان عبور نور در محدوده مرئی با افزایش انرژی یون از keV ۳ را نشان میدهد که با افزایش نسبت ID/IG و کاهش ضخامت لایه همراه است. مقاومت الکتریکی اندازهگیری شده توسط روش چهارکاوه و شکاف انرژی نوری در محدوده مذکور نیز روند افزایشی دارد. براساس نتایج بدست آمده با استفاده از معادله تاک حداکثر شکاف انرژی نوری لایه نازک کربن آمورف eV۷۵/۳ مربوط به لایه انباشت شده با اندازهی خوشههای گرافیتی برابر با nm ۵ میباشد.

کلیدواژه ها:

لایه نازک کربن آمورف گرافیتی ، خواص نوری ، انرژی یون ، کندوپاش پرتو یونی