کنترل آسان مورفولوژی لایه های نازک WO تهیه شده به روش بخار مرطوب فراصوت

دراین مقاله لایه های نازک تنگستن اکسید بر روی زیرلایه شیشه به روش بخار مرطوب فراصوت تهیه شد. در این روش اثر پارامترهای مهم مانند دمای زیرلایه (200 و 400 درجه سلسیوس) و زاویه زیرلایه (صفر و 25 درجه) بر مورفولوژی لایه ها به دقت مورد بررسی قرار گرفت. برای مطالعه مورفولوژی سطح لایه ها از تصاویر SEM استفاده گردید. بررسی تصاویر بدست آمده از میکروسکوپ الکترونی نشان داد که در سطح نمونه های تهیه شده در دمای 200 درجه سلسیوس با زاویه صفر و 25 درجه، ساختار نانوالیاف به ترتیب با قطر متوسط 320 و 400 نانومتر بدست آمده اند. ولی هنگامی که دمای زیرلاهی به 400 درجه سلسیوس رسید، ساختارهای نانوالیاف از بین رفته اند.

کلیدواژه ها:

تنگستن اکسید ، نانوالیاف ، لایه نازک ، بخار مرطوب فراصوت