بررسی تاثیر غلظت فسفر بر عملکرد سلول های خورشیدی حالت جامد پایه سیلیکون متخلخل

در پژوهش حاضر، تاثیر غلظت فسفر در محلول آلاینده بر عملکرد سلول­های خورشیدی حالت جامد پایه سیلیکون متخلخل مورد بررسی قرار گرفت. برای این منظور بسترهای سیلیکونی به روش حکاکی شیمیایی توسط نقره و با استفاده از محلول حکاکی آبی حاوی هیدروفلوریک اسید و      هیدروژن­پروکسید به نسبت­های 82/0، 87/0 و 89/0 حکاکی شدند و خصوصیات نوری و سطحی آن­ها به ترتیب توسط بازتاب­سنجی و میکروسکوپ­های نوری و الکترونی روبشی گسیل میدانی مورد ارزیابی قرار گرفتند. در ادامه، سلول­های خورشیدی با نفوذ فسفر در سه غلظت 3%، 9% و 15% در محلول آلاینده به درون بستر سیلیکونی با تخلخل بهینه ساخته شدند. نتایج مشخص کرد که سیلیکون حکاکی شده با هیدروفلوریک اسید و هیدروژن پروکسید به نسبت 82/0 به دلیل برخورداری از تخلخل­های یکنواخت و با اندازه نزدیک به ذرات  نقره دارای بازتابی در حدود 11% شد که بهترین بستر برای جذب حداکثر میزان نور برخوردی به شمار می­رود. بررسی عملکرد فوتوولتاییک سلول­های ساخته شده بیانگر افزایش 98% جریان مدار کوتاه سلول آلایش یافته با غلظت 3% از فسفر است که بازده کل سلول را به میزان 6/10% افزایش داده است.

کلیدواژه ها:

سیلیکون متخلخل ، فسفر ، حکاکی شیمیایی توسط فلز و سلول خورشیدی حالت جامد