Impact of Length and Diameter of Channel on Carbon Nanotube Field Effect Transistors

سال انتشار: 1388
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: انگلیسی
مشاهده: 1,742

متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

CNS03_296

تاریخ نمایه سازی: 21 دی 1388

چکیده مقاله:

Decreasing the channel length of transistors, lead to high integrated and density circuits and consequently it is most important challenge in fabrication process. Carbon nanotube field effect transistors (CNTFETs) have high ability to channel decreasing as high as possible because of their unique carrier transport properties. In this work we demonstrate that performance of these devices is affected by channel length and diameter changing. We also study leakage current in the ballistic channel arising from band to band tunnelling based on changes in channel properties. It can be seen that in high diameter values, decreasing the length increases leakage and then leads to degrade Ion/Ioff ratio. In high “n” values, after certain amount of channel length, no change will be seen in device performance because channel is assumed that will be ballistic. It’s required to diameter scaling to minimize leakage along with channel length decreasing.

کلیدواژه ها:

Carbon Nanotube ، Field Effect Transistor ، Channel Length ، Non-Equilibrium Green’s Function (NEGF)

نویسندگان

Shaahin G. Shirazi

Electrical & IT College, Qazvin Islamic Azad University, ۰۲۸۱, Iran,

Sattar Mirzakuchaki

EE Dep, Iran University of Science & Technology, ۰۲۱, Iran

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • International Technology Roadmap for S emiconductor 2004, http/: public.itrs.net; ...
  • M. Dresselhaus, G. Dresselhaus, Ph. Avouris, Editors, Carbon Nanotube : ...
  • B. Q. Wei, R. Vajtai, and P. M. Ajayan, "Reliability ...
  • R. Martel, T. Schmidt, H. R. Shea, T. Hertel, and ...
  • R. Martel, H.-S. P. Wong, K. Chan, and Ph. Avouris, ...
  • V. Derycke, R. Martel, J. Appenzeller, and Ph. Avouris, Nano ...
  • X. Liu, R. Lee, J. Han, C. Zhou, _ Carbon ...
  • S. J. Wind, J. Appenzeller, and P. Avouris, "Lateral scaling ...
  • M. Radosavljevic, J. Appenzeller, Ph. Avouris, and J. Knoch, "High ...
  • A. Javey, R. Tu, D. B. Farmer, J. Guo, R. ...
  • W. B. Choi, B. H. Cheong, J. J. Kim, J. ...
  • S. Datta, "Nanoscale device modeling: the Green's method, " Superlattices ...
  • نمایش کامل مراجع