بررسی مکانیسم پوشش دهی اثر فشار دمای سینتر در پاشش سرد نانوذرات اکسیدروی

فناوری پاشش سرد، از جمله فرآیندهای مدرن پوشش دهی با سرعت بالا دمای پایین است که از ویژگیشتاب دهی به پودر تا حد فراصوت برخورد شدید آن با بستر، برای تولید انواع پوشش ها، استفاده می کند. باتوجهبه کاربردهای فراوان پوشش های نانوساختار سرامیکی به ویژه اکسیدروی، در سامانه های فتوکاتالیستی ادواتنیمه رسانا، بهره گیری از روش پاشش سرد بررسی مکانیزم های حاکم، جهت دستیابی به شرایط بهینه، ضروریاست. در پژوهش حاضر، مکانیزم تشکیل نانوذرات اکسیدروی، با استفاده از سه نوع گرانول متمایز، در شرایطمتفاوت پاشش سرد، مورد بررسی قرارگرفت. نانوذرات بدون عملیات حرارتی در دمای محیط، نانوذرات سینترشدهدر دماهای 900 درجه سانتیگراد 1200 درجه سانتیگراد، با استفاده از گازحامل نیتروژن، با فشارهای 15و 25 بار بر بستر مس پاشیده شد بررسی های میکروسکوپالکترونیروبشی، آزمون پراش پرتوی ایکس وطیف سنجی پراش انرژی پرتوایکس به روی پوشش ها، صورت گرفت. نتایج نشان داد با انتخاب شرایط بهینه در روشگرانول سازی پاشش سرد، دستیابی به پوشش های نانوساختار، بدون تغییر در خواص نانوذرات در دمای پایین،امکان پذیر است. بر اساس این نتایج، پوشش دهی با نانوذرات گرانولی سینترشده در دمای 900 درجه سانتیگرادو در فشار 15 بار، به عنوان پوشش بهینه انتخاب شد. به علاوه، مکانیزم قفل شدگی مکانیکی، به عنوان مکانیزم غالبدر تشکیل پوشش، مشخص گردید.

کلیدواژه ها:

پاشش سرد ، نانوذرات ، اکسیدروی ، نانوساختار ، مکانیسم ، پوشش