ساخت لایه نازک اکسید قلع به روش سل-ژل و بررسی خواص اپتیکی آن با استفاده از روش اسپکتروسکوپی الیپسومتری

سال انتشار: 1397
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 577

فایل این مقاله در 7 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

MATHCO01_002

تاریخ نمایه سازی: 24 شهریور 1397

چکیده مقاله:

در این مطالعه خواص اپتیکی شامل درصد بازتابش و عبوردهی، ضریب شکست و ضریب جذب و همچنین گاف نواری اپتیکی لایه نازک اکسید قلع ساخته شده به روش سل ژل با استفاده از اسپکتروسکوپی الیپسومتری تعیین شد. لایه نازک اکسید قلع بر روی زیر لایه شیشه با سرعت چرخش 1800 دور بر دقیقه با استفاده از پوشش دهی دورانی لایه نشانی شد. سپس لایه بر روی صفحه داغ با دمای 150 ͦC به مدت 10 دقیقه پخته و بلافاصله در کوره با دمای 450 ͦC به مدت 1 ساعت بازپخت شد. خواص اپتیکی لایه نازک اکسید قلع در محدوده طول موج مریی 300 تا 800 نانومتر با زوایه تابش فرودی ثابت 70 درجه بررسی شد. گاف اپتیکی به دست آمده برای لایه نازک اکسید قلع ساخته شده به میزان 3.8 الکترون ولت تعیین شد.

نویسندگان

سحر مرادی

دانشجوی دکتری گروه فیزیک دانشکده علوم دانشگاه ارومیه

حسن صدقی

استاد گروه فیزیک دانشکده علوم دانشگاه ارومیه