ساخت لایه نازکی از اکسید تنگستن و بررسی خواص اپتیکی و الکتروکرومیکی آن

در این تحقیق لایه های نازک WO3 از اسید پروکسوپلی تنگستیک با استفاده از روش سل - ژل، در محدوده دمایی 500-120°C ساخته شد. پراش اشعه ایکس (XRD) فاز WO3 را نشان داد. بجز نمونه ساخته شده در 500، بقیه نمونه ها به شکل آمورف درآمده اند. آنالیز نوری، حالت آبی تیره (درصد عبور=17%-7 در ناحیه مرئی) را در ولتاژ 2.2- ولت نشان داد د رحالیکه شفاف شدن در 1.8+ ولت اتفاق افتاد (درصد عبور=66.6%-60). در لایه هایی که در 200 بمدت یک ساعت پخته شدند، برگشت پذیری خوبی مشاهده شد.

کلیدواژه ها:

اکسید تنگستن ، خواص اپتیکی والکتروکرومیکی ، سل ژل ، لایه های نازک