بررسی مشخصات اپتیکی و ساختاری نانو لایه های سیلیکون تهیه شده به روش لایه نشانی غوطه وری

دراین تحقیق فیلم نازک نانوذرات سیلیکون از طریق غوطه وری زیرلایه شیشه ای در محلول کلوئیدی نانوذرات سیلیکونی ایجاد شده به روش کندوسوز لیزری درمحیط اتانول تهیه شده است. طیف جذبی UV-visible محلول کلوئیدی یک پیک جذبی در محدود 220nm را نشان می دهد. خواص ساختاری و مورفولوژی فیلم نازک تهیه شده با استفاده از طیف XRD و تصاویر AFM موردمطالعه قرار گرفته است. میانگین اندازه نانوذرات روی فیلم درحدود nm80 بدست آمده است. پایداری لایه های تهیه شده بسیار خوب می باشد.

کلیدواژه ها:

سیلیکون ، فیلم نازک ، کندوسوز لیزری و نانوذرات