اثر به کارگیری اهداف نانوساختار مختلف بر گسیل خطی اشعه ایکس سخت از پلاسمای حاصل از لیزرهای پالسی بلند پرتوان
محل انتشار: شانزدهمین کنفرانس اپتیک و فوتونیک ایران
سال انتشار: 1388
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,067
متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
ICOPTICP16_178
تاریخ نمایه سازی: 18 تیر 1388
چکیده مقاله:
در این مقاله گسیل اشعه ایکس سخت گسسته از پلاسمای تولید شده توسط تابش دهی اهداف فلزی نانوساختار آهن و آلومینیوم به وسیله پالسهای لیزر پرتوان با طول پالس بلندو شدت های مختلف بررسی می شود. به منظور کنترل و افزایش گسیل خطی اشعه ایکس، از اهداف فلزی نانو و ساختار به جای اهداف معمولی استفاده شد. شبیه سازی و محاسبات نشان می دهد در کلیه موارد مورد بررسی، میزان گسیل اشعه ایکس به ازا یک چگالی مناسب برای لایه نانویی، افزایش قابل ملاحظه ای خواهد داشت.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
عطاءاله آی سان دائی
دانشکده فیزیک، دانشگاه علم و صنعت ایران، نارمک تهران
محمدحسین مهدیه
دانشکده فیزیک، دانشگاه علم و صنعت ایران، نارمک تهران
علی صنعتی
دانشکده مهندسی مکانیک، دانشگاه آزاد اسلامی واحد تاکستان
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :