تاثیر میزان آلایش بر خواص اپتوالکتریکی و مورفولوژی لایه های نازک SnO2:F
محل انتشار: شانزدهمین کنفرانس اپتیک و فوتونیک ایران
سال انتشار: 1388
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 987
متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
ICOPTICP16_146
تاریخ نمایه سازی: 18 تیر 1388
چکیده مقاله:
لایه های نازک اکسید قلع الاییده شده با فلوئور به روش اسپری پایرولیزز برروی زیرلایه های شیشه ای انباشته شده اند. اثر میزان آلایش فلوئور برروی خواص اپتوالکتریکی و مورفولوژی لایه مورد بررسی قرار گرفته است. آنالیز مورفولوژیکی لایه ها نمایان می سازد که اندازه دانه ها با افزایش میزان آلایش لایه ها، نسبت به اندازه دانه در لایه های بدون آلایش، افزایش یافته است. همچنین میانگین شفافیت اپتیکی لایه ها نیز با آلایش لایه ها افزایش می یابد و خواص الکتریکی لایه ها نیز با افزایش میزان آلایش فلوئور بهبود می یابد. لایه هایی با میزان 25 درصد اتمی آلایش فلوئور بهترین خواص فیزیکی را از خود نمایش می دهند.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
نفیسه معماریان
رشت، خیابان نامجو، دانشکده علوم پایه ، گروه فیزیک
سیدمحمد روضاتی
رشت، خیابان نامجو، دانشکده علوم پایه ، گروه فیزیک
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :