بررسی تئوری و تجربی اثر ضرایب تخلخل و هدایت گرمایی بر انرژی آستانه تخریب لیزری لایه های نازک اپتیکی

فیلمهای تک لایۀ ZrO2,TiO2 برروی شیشۀ BK7 از روش تبخیر فیزیکی (PVD) با استفاده از تفنگ الکترونی لایه نشانی شده. پس از 1 ساعت عملیات حرارتی برروی لایه ها در دمای 300درجه سانتیگراد، ضریب تخلخل فیلم ها از طریق طیف ضریب شکست و با استفاده از روش پوش بدست آمد. لایۀ TiO2 ضریب تخلخل بیشتری (ساختار متخلخل تری) نسبت به لایه ZrO2 دارد که تصاویر AFM نیز آنرا تصدیق می کنند. با اندازه گیری آستانه تخریب روشن می شود که TiO2 پایداری کمتری در مقابل تابش لیزر نسبت به نمونه ZrO2 دارد. این نتیجه منجر به بررسی تئوری اثر تخلخل بر رسانندگی گرمایی لایه ها می شود. و روشن می گردد که آستانۀ تخریب بصورت جدی تحت تأثیر قرار دارد.

کلیدواژه ها:

آستانۀ تخریب لیزری ، ضریب تخلخل ، لایه های نازک اپتیکی