گاف باند القایی گرافن در شبه نانو بلور فوتونی فیبوناچی

سال انتشار: 1396
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 351

متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

CEES01_110

تاریخ نمایه سازی: 11 خرداد 1397

چکیده مقاله:

در این بررسی نانو ساختارهای لایه ای فیبوناچی موسوم به نانو بلورهای فوتونی شبه تناوبی شامل نانو لایه های گرافن رابررسی کردیم طیف تراگسیل نانو بلور فتونی شبه متناوب را با بهره گیری از روش ماتریس انتقال بررسی کرده و نشان دادیم که در چنین نانو ساختارها نوع جدیدی از گاف باند فوتونی موسوم به گاف باند القایی گرافن ظاهر میشود که حساس به بعضی از پارامترها مانند پتانسیل شیمیایی نانو لایه گرافن و اتلاف در لایه گرافن و ... میباشد نتایج نشان داد که گاف باند القایی گرافن وابسته به پارامترهای اپتیکی لایه گرافن بوده و با تغییر پتانسیل شیمیایی قابل کنترل میباشد هم چنین تاثیر پارامتر اتلاف در نانو لایه گرافن منجر به تغییر در میزان تراگسیل میشود هرچند که پهنای باند گاف های نانو ساختار را چنداد تحت تاثیر قرار نمیدهد نتایج حاصل از این بررسی در طراحی ادواتاپتیکی بر پایه نانو بلورهای فوتونی گرافنی مفید واقع شوند

کلیدواژه ها:

بلور فوتونی فیبوناچی- گاف باند القایی- نانو لایه گرافن

نویسندگان

مهرداد باوقار

باشگاه پژوهشگران جوان و نخبگان واحد تبریز دانشگاه آزاد اسلامی تبریز ایران

ربابه طالب زاده

گروه فیزیک واحد تبریز دانشگاه آزاد اسلامی تبریز ایران