طراحی و شبیه سازی فین فت دوگیتی نانومتری مبتنی بر تکنولوژهای Si، GaAs و InGaAs

سال انتشار: 1396
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 554

فایل این مقاله در 10 صفحه با فرمت PDF و WORD قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

IRCEM02_039

تاریخ نمایه سازی: 7 اسفند 1396

چکیده مقاله:

در این مقاله ساختار فین فت دوگیتی-دوماده ای با اتصال گیت شاتکی با underlap بررسی شده است. جریان درین، رسانایی متقابل، رسانایی خروجی، خازن گیت-سورس و فرکانس قطع ترانزیستور برای کاربردهای آنالوگ و فرکانس بالا برای نیمه هادی های Si، GaAs و InGaAs بررسی شده است. بر اساس نتایج شبیه سازی با کاهش طول underlap جریان درین افزایش خواهد یافت. همینطور نتایج شبیه سازی نشان می دهد که برای InGaAs بالاترین جریان درین، بالاترین رسانایی متقابل، بالاترین رسانایی خروجی و بالاترین فرکانس قطع را در ولتاژ گیت کمتر از 0/6 ولت خواهیم داشت. بر اساس نتایج شبیه سازی GaAs بالاترین ضریب تولید رسانایی متقابل را از خود نشان می دهد.

نویسندگان

محمداسمعیل زارع داودیجانی

دانشجوی دکتری الکترونیک، گروه برق، واحد گرمسار، دانشگاه آزاد اسلامی، گرمسار، ایران

عبدالله عباسی

گروه برق، واحد گرمسار، دانشگاه آزاد اسلامی، گرمسار، ایران