تأثیر پارامترهای آندیزاسیون بر طیف فوتولومینسانس سیلیکان متخلخل
محل انتشار: پانزدهمین کنفرانس اپتیک و فوتونیک ایران
سال انتشار: 1387
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 966
متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
ICOPTICP15_226
تاریخ نمایه سازی: 10 دی 1387
چکیده مقاله:
در این کار تأثیر چگالی جریان و مدت زمان آندیزاسیون به عنوان دو پارامتر آندیزاسیون بر روی ساختار تخلخلی پایه های سیلیکان تک کریستالی نوع p- و طیف فوتولومینسانس مربوط به آنها بررسی شد. افزایش چگالی جریان و همچنین مدت زمان آندیزاسیون باعث افزایش تخلخل نمونهها گردید. همچنین طیف فوتولومینسانس نمونهها نیز با افزایش چگالی جریان و مدت زمان آندیزاسیون، به سمت انرژیهای بالا جابه جا شد. به بیان دیگر پیک طیف فوتولومینسانس که بیانگر انرژی نوار گاف است، با افزایش تخلخل به سمت انرژی های بالا میل کرد که این در توافق با مدل محدودیت کوانتومی است.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
ندا رحمانی،
تهران، ده ونک، گروه فیزیک دانشگاه الزهرا
رضا ثابت داریانی
تهران، ده ونک، گروه فیزیک دانشگاه الزهرا