بازدهی جریان پالسی در فرایند پوشش دهی نانوذرات طلا از محلول دی سیانورات پتاسیم

مقایسه ی اثر دو نوع زیرلایه و افزودنی نشان داد که هنگام پوشش دهی پالسی نانوذرات طلا، استفاده از اکسید ایندیم- قلع ( به جای مس) و سیس تیین ( به جای یدید پتاسیم) سبب بهبود مرفولوژی، افزایش تعداد نانوبلورها و بازدهی جریان الکتریکی و خواص فتوکاتالیزری می شود. مطالعات میکروسکپ الکترونی روبشی گسیل میدانی نشان داد که با افزایش فرکانس پالسی از 50 به 142/8 هرتز و استفاده از یدید پتاسیم، نانوخوشه های طلا روی سطح مس ظاهر می شوند و ضخامت پوشش و بازدهی جریان افزایش می یابند، ولی با کاهش چگالی جریان از 10 به 2/5 میلی آمپر بر سانتی متر مربع، ضخامت پوشش و بازدهی جریان کاهش می یابند.

کلیدواژه ها:

نانوذرات طلا ، رسوب دهی الکتریکی پالسی ، سیس تیین ، یدید پتاسیم ، مس ، اکسید ایندیم- قلع