The Influence of Applying Constant Potential on the Optical Properties of Nickel Oxide Thin Films Deposited by Electrodeposition
محل انتشار: یازدهمین سمینار سالانه الکتروشیمی ایران
سال انتشار: 1394
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: انگلیسی
مشاهده: 265
متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
ELECTROCHEMISTRY011_322
تاریخ نمایه سازی: 5 بهمن 1395
چکیده مقاله:
Nickel oxide (NiO) is a stable wide band gap material and can be used as a transparent p-type semiconducting layer, which has many applications in optical industrials [1]. In this paper, we havestudied the influence of applying constant potential on the optical properties of NiO thin films deposited by electrodepesition on fluorine tin oxide (FTO)-glass for use in optical filters
کلیدواژه ها:
نویسندگان
e Alajegerdi
Department of Physics, University of Shahrood, Shahrood, Iran
h Haratizadeh
Department of Physics, University of Shahrood, Shahrood, Iran
m Abbasi Firouzjah
Nanomaterial R & D Center, Semnan Science and Technology Park, Shahrood, Iran
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :