اثر دانسیته جریان و آماده سازی سطح بر مرفولوژی پوشش های رسوب الکتریکی روی–کبالت

در این تحقیق از حمام اسیدی سولفاتی در دمای 25درجه سانتیگراد pH=2 برای به دست آوردن پوشش روی کبالت به روش گالوانواستاتیک روی فولاد کم کربن استفاده شده است . اثر دانسیته جریان تا 200mA/cm2 و نحوه آماده سازی سطح (الکتروپولیش،پولیش مکانیکی وas-received ) روی بافت کریستالوگرافی، مرفولوژی و ترکیب شیمیایی پوشش بررسی شد. نتایج به دست آمده نشان می دهد که افزایش دانسیته جریان باعث افزایش درصد کبالت در هر سه سطح الکتروپولیش ، پولیش مکانیکی و as-received میشود. تغییر دانسیته جریان در سطوح as-received بر شدت نسبی صفحات قاعده ( 002 ) پوشش تاثیر چندانی ندارد و در این سطوح شدت نسبی صفحات قاعده( 002 ) پوشش تقریبا ناچیز است . در حالی که بافت پوشش روی سطح الکتروپولیش و پولیش مکانیکی به دانسیته جریان رسوب دهی بستگی دارد به طوری که افزایش دانسیته جریان باعث کاهش شدت نسبی صفحات قاعده ( 002 )، در پوشش میشود. همچنین مرفولوژی پوشش روی هر سه سطح کاملا متفاوت است . در سطوح الکتروپولیش کریستال های روی–کبالت پوشش در یک جهت خاص روی هر دانه ترتیب یافته اند و به صورت اپی تکسی رشد کرده اند در حالیکه در سطوح پولیش مکانیکی و as-received کریستال های روی –کبالت به صورت تصادفی رشد کرده اند، لذا در جهات مختلف جهت گیری نموده اند.