Effect of Magnetron Plasma Parameters on the Sputtered Thin Films of Copper

سال انتشار: 1385
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: انگلیسی
مشاهده: 1,750

فایل این مقاله در 8 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

ISSE07_069

تاریخ نمایه سازی: 29 خرداد 1387

چکیده مقاله:

A sputtering apparatus was designed and manufactured with a planar circular DC magnetron. The effect of magnetic field lines on the plasma structure was shown using photo imaging. Unbalanced condition of the magnetron was demonstrated under different values of voltage, pressure and distance between cathode and substrate. The effect of these variables was studied on the coatings thicknesses, their composition and light absorption using the data from the experiments of light photo spectrometry. Keywords: sputtering; magnetron; absorption; spectrometry .

نویسندگان

A. R. Rastkar

Laser-Plasma Research Institute, Shahid Beheshti University

A. R. Niknam

Laser-Plasma Research Institute, Shahid Beheshti University

B Shokri

Laser-Plasma Research Institute,Phys. Dept. and Laser-Plasma Research Institute, Shahid Beheshti University

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • S Kondo and K Nanbu, J. Phys. D: Appl. Phys. ...
  • ASM Handbook, Vol 5, Surface Engineering ...
  • A.A. Ogwu, E.Bouquerel and F.Placido, Coating Materials News, Volume 13 ...
  • Thomas J. Richardson, New El ectrochromic Mirror Systems, A report ...
  • T.J. Richardson *, J.L. Slack, M.D. Rubin, El ectrochimica Acta ...
  • نمایش کامل مراجع