تاثیر ضخامت لایه های نانومتری بر سختی پوشش های چند لایه مس / نیکل آبکاری شده در مجاورت میدان مغناطیسی

در این مقاله پوشش های چند لایه (multilayer) مس / نیکل توسط یک حمام آبکاری سولفاتی تهیه و بررسی شدند. از آنجا که لایه های زیر ظرفیت تحمل بار را کاهش داده و موجب کاهش استحکام ظاهری می شوند، در ابتدا تاثیر دانسیته جریان مستقیم، افزودن پلی اتیلن گلیکول (6000) و اعمال میدان مغناطیسی روی صافی سطح پوشش های مس - نیکل مورد بررسی قرار گرفت. نتایج زبری سنجی نشان داد که با افزای شدانسیته جریان، استفاده از پلی اتیلن گلیکول (6000) و همچنین استفاده از میدان مغناطیسی عمود بر سطح کاتد زبری پوشش های فوق کمتر می شود که میدان مغناطیسی بیشترین تاثیر را در کاهش زبری دارد. در ادامه پوشش های چند لایه مس / نیکل در حضور میدان مغناطیسی تهیه شدند. پوشش های چند لایه فوق با وجود عدم استفاده از هرگونه افزودنی و صرفا با استفاده از میدان مغناطیسی دارای ظاهری صاف و درخشان بودند. اندازه گیری سختی پوشش ها با تغییر ضخامت جفت لایه پوشش چند لایه در محدوده 6-34 نانومتر نشان داد که حداکثر سختی این پوشش ها در جفت لایه 24 نانومتری به دست می آید.

کلیدواژه ها:

چند لایه (مولتی لیر) ، مس/ نیکل ، رسوب الکتروشیمیایی ، یک حمام ، نانو ساختار