Drift Counteraction in Ion-selective Field Effect Transistors by Adjusting the Charge in the Semiconductor
محل انتشار: کنفرانس بین المللی مهندسی برق
سال انتشار: 1395
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: انگلیسی
مشاهده: 863
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
ICELE01_243
تاریخ نمایه سازی: 21 شهریور 1395
چکیده مقاله:
In pH-sensitive ion-selective field effect transistors (ISFET’s) device instability, commonly known as drift, is manifested as a slow, monotonic, temporal increase in the threshold voltage of the device. A method for correction of threshold voltage drift in pH-sensitive ISFETs is presented. This method involves adjusting the charge in the semiconductor such that the variation in the flatband voltage is rendered independent of the temporal variation of the overall insulator capacitance. The adjustment of semiconductor charge can be accomplished by ion implantation to modify the surface charge density in the channel region. Application of this method for correction of ISFET drift is justified based on a physical model providing an accurate, quantitative description of the drift behavior in pH-sensitive ISFETs. The validity of the proposed method is verified by applying this model to demonstrate that drift can be reduced in an Al2O3-gate pH-sensitive ISFET using threshold voltage adjustment by ion implantation.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
Mohammad nabi zand
Department of Electrical Engineering, Islamic Azad University, Saveh, Iran
shahriar jamasb
Corresponding Author, Department of Biomedical Engineering, Hamedan University of Technology, Hamedan, Iran
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :